장비 설명 :
· 장비 소개 :
에칭 챔버를 통과하는 공정 가스 분자를 표현하여 혈장을 생성하기 위해 분해 및 이온화를 표현하십시오.
혈장에서 활성 그룹 중 일부는 에칭 된 물질의 표면과 화학적으로 반응하고;
펄스/무선 주파수 전원 공급 장치를 통해 박막 에칭 장비를 표현하십시오. 혈장의 양의 이온은 물리와 화학의 조합에 의해 재료의 표면을 청소, 수정 및 에칭하기 위해 에칭 된 재료의 표면에 물리적으로 폭격됩니다.
· 장비 장점 :
초대형 에칭 온도를 표현하면 다양한 경우의 온도 요구 사항을 충족시키기 위해 열 응력과 기질 변형을 피할 수 있습니다.
Express Dual Ion 소스는 실린더의 양쪽으로 들어 올릴 수 있으며 유지 보수가 쉽습니다.
Express 박막 에칭 장비는 이온 빔 세정 공급원 및 독특한 방전 기술, 높은 플라즈마 밀도, 에칭 세정 효과가 양호하고 균일 성이 우수합니다.
Express Alarm and Protection : 종합 안전 보호에는 다음이 포함됩니다 : 온도 안전 보호 기능, 과부하 보호 기능, 단락 방해 경보 보호 기능, 다양한 오해 보호 기능.
응용 프로그램 필드 :
Express Etchable 재료 : 금속, 비금속, 합금, 전자 성분 (단결정 실리콘, 비정질 실리콘, 폴리 실리콘, SOI), 금속 산화물, 질화물, 탄화물, 세라믹, 폴리머, 초전도 재료 등.
Express는 DLC/TA-C 필름 용 필름 페이딩 머신으로 사용할 수 있습니다.
Express는 3C 소비자 전자 장치, 전자 부품, 광학, 운송, 공구 금형, 가정 기기, 새로운 에너지, 의료, 연구 기관 및 기타 산업에서 사용할 수 있습니다.
이온 에칭 후 이온 에칭 전
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