플라즈마 세척 기계

플라즈마 세척 기계

정보
플라즈마 세척 기계는 재료 표면에서 유기 오염물질, 산화물 및 미세한 잔류물을 제거하기 위한 다목적 솔루션입니다. 저온-플라즈마 기술을 활용하여 표면 에너지와 접착력을 크게 향상시키는 동시에 민감한 기판에 대한 열 손상을 방지합니다.
제품 분류
이온 에칭 장비
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설명
기술적인 매개 변수

플라즈마 세척 기계재료 표면에서 유기 오염물질, 산화물 및 미세한 잔류물을 제거하기 위한 다목적 솔루션입니다. 저온-플라즈마 기술을 활용하여 표면 에너지와 접착력을 크게 향상시키는 동시에 민감한 기판에 대한 열 손상을 방지합니다.

 

핵심 장점:

 

비-열 세척 공정

  • 80도 미만의 온도에서 작동하므로 폴리머(PET, PC), 고무, 바이오폴리머 등 열에 민감한{1}}재료에 이상적입니다.
  • 표면 활성화: 표면 에너지를 30~40mN/m에서 60~70mN/m로 증가시켜 코팅, 접착제, 잉크의 습윤성을 향상시킵니다.

 

고-효율성 오염물질 제거이중 청소 메커니즘:

  • 화학적 세척: 산소플라즈마가 유기잔류물(기름, 지문)을 휘발성 CO2, H2O로 산화시킵니다.
  • 물리적 폭격: 아르곤 이온이 무기입자(먼지, 금속산화물)를 제거합니다.
  • 청소 속도: 오염물질 종류에 따라 2~5분 이내에 99.9% 순도를 달성합니다.

 

적응형 구성

  • 다중-가스 호환성: Ar, O2, N2, 혼합가스를 지원하여 맞춤형 청소 효과를 제공합니다.
  • 조정 가능한 전극 간격: 회전 플랫폼을 올리거나 내릴 수 있어(0~300mm 범위) 플라즈마 밀도 분포를 최적화할 수 있습니다.

 

사용자-친화적인 디자인

  • 빠른 유지보수: 공압식 升降 메커니즘에 이중 이온 소스가 장착되어 있어 교체나 청소 시 접근이 용이합니다.
  • 컴팩트한 설치 공간: 맞춤형 크기(너비: 800~2000mm)는 제한된 생산 공간에 맞게 조정됩니다.

 

청소 전- 및 청소 후-비교

  • 사전-청소: 표면에 그리스, 산화막, 이형제가 포함되어 코팅이 벗겨지거나 인쇄 품질이 저하될 수 있습니다.
  • 사후-청소: 화학적으로 활성이 있는 매우 깨끗한 표면을 얻을 수 있으며, 의료 기기 조립이나 자동차 부품 접착과 같은 응용 분야에서 견고한 접착력을 보장합니다.

 

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신청:

 

  • 의료기기: 수술도구 표면의 살균 및 활성화.
  • 포장: 플라스틱 필름의 잉크 접착력을 향상시킵니다.
  • 자동차: 접착 전 고무 씰의 전-처리.

 

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