제품개요

 

산업용 음극 아크 증발 시스템은 내마모성, 내식성-, 저마찰 하드 코팅을 증착하기 위해 설계된 생산-등급 물리 기상 증착(PVD) 플랫폼입니다. 낮은-전압, 높은-전류 전기 아크를 사용함으로써 고체 음극 타겟이 음극 지점에서 즉시 기화 및 이온화되어 고도로 이온화된 금속 플라즈마를 생성합니다.


ISO 9001 품질 관리 표준 및 CE 규정 준수 지침에 따라 설계 및 제조된 이 시스템은 도구 제조, 자동차 부품, 산업용 하드웨어 분야의 처리량이 높은 코팅 작업용으로 구성되었습니다.{1}} 표준 구성은 다중 -음극 레이아웃을 독립적인 자기장 조향-, 프로그래밍 가능한 DC/펄스 바이어스 전원 공급 장치, 자동 진공 제어와 통합하여 일관된 필름 화학량론과 조밀한 미세 구조를 유지합니다.

 
  • 아크 증발 박막 시스템
    산업용 음극 아크 증발 박막 시스템은 조밀하고 접착력이 강한 금속, 합금 및 세라믹 화합물 코팅을 고속으로 증착하도록 설계되었습니다.{0}} 고체 음극 타겟에서 낮은-전압, 높은-전류 아크 방전을 통해 작동하는 이 시스템은 재료를 고도로 이온화된 플라즈마 상태(40% - 80% 금속 이온 비율)로 직접 기화합니다. 이는 활성 이온을 기판 인터페이스로...
    자세히 보기
  • 아크 증발 PVD 장비
    산업용 음극 아크 증발 PVD 시스템은 저{0}}전압, 고전류-전기 아크를 활용하여 진공 환경에서 고체 음극 타겟을 기화합니다. 이 메커니즘은 80%를 초과하는 금속 이온화율을 달성하여 열 증발 또는 표준 마그네트론 스퍼터링에 비해 높은 화학적 결합 강도와 기판 접착력을 보장합니다.
    자세히 보기
  • 진공아크박막시스템
    산업용 진공 아크 박막 시스템은 음극 아크 증발을 활용하여 조밀하고 접착력이 높은 금속, 합금 및 세라믹 박막을 증착합니다. 높은-전류, 낮은-전압 아크는 고체 음극 재료를 고도로 이온화된 플라즈마 스트림(40% - 80% 이온화율)으로 기화시켜 탁월한 필름-대-접착 강도와 높은 증착 속도를 보장합니다.
    자세히 보기
  • 음극아크박막장비
    국소적인 저전압, 고전류-전기 아크를 활용하여 고체 음극 타겟을 완전히 이온화된 플라즈마로 기화시키는 물리 기상 증착(PVD) 시스템입니다. 높은 이온화율(40%-80%)은 조밀한 원자 수준 결합과 높은 압축 응력을 유도하여 고속도강(HSS), 초경 절삭 공구, 자동차 부품 및 의료 기기에 내마모성 및 장식 코팅을 -고속으로 증착-할 수 있습니다.
    자세히 보기
  • 아크 증발 증착 장비
    조밀하고 내마모성이 있는 기능성 하드 코팅의 고속-합성을 위해 설계된 산업용 물리 기상 증착(PVD) 플랫폼입니다. 고체 타겟 표면에 높은-전류, 낮은-전압 음극 아크 방전을 유지하면 80%에서 거의 100%에 가까운 이온화된 플라즈마 흐름이 생성됩니다.
    자세히 보기
  • 아크 증발 박막 장비
    이 음극 아크 증발 시스템은 저{0}}전압, 고전류-전기 아크를 통해 고체 음극 타겟을 기화시켜 완전히 이온화된 금속 플라즈마를 생성합니다. 표준 열 증발 또는 마그네트론 스퍼터링에 비해 이 PVD 공정은 기능성, 내마모성 및 장식용 하드 코팅에 맞게 더 높은 플라즈마 밀도와 우수한 필름-대-접착성을 제공합니다.
    자세히 보기
 
기술 사양

 

매개변수

사양 범위 / 표준 구성

챔버 치수

직경: 800mm - 1800mm(수직/수평 레이아웃 맞춤 설정 가능)

챔버 재료

내부 수냉식 채널이 있는 이중-SUS304 스테인리스 스틸-

궁극적인 진공 압력

<= 5.0 x 10^-4 Pa (Achieved via roots blower and molecular/oil diffusion pump groups)

음극 구성

전자기 조종 기능이 있는 직사각형/원형 아크 소스 4~12개

아크 전원 공급 장치

300A - 500조정 가능한 정전류, 리플<= 2%

기판 바이어스 전력

0~-1000V 조정 가능, 펄스 바이어스 주파수 10kHz - 100kHz

난방 시스템

복사 히터 배열, 최대 온도 600도 +/- 5도 균일성

공작물 회전

자성유체 피드스루에 의해 구동되는 유성 또는 이중{0}}축 회전

제어 시스템

PLC + 산업용 PC, 레시피- 기반 자동 시퀀스 제어

유틸리티 요구 사항

냉각수: 0.25-0.35 MPa, 20-25도; 전원: 380V/480V, 3상, 50/60Hz

 

아크 증발 공정

증착 사이클은 필름 무결성과 인터페이스 접착력을 보장하기 위해 엄격한 절차적 제어에 따라 작동합니다.

대피 및 가스 배출:

진공 챔버는 기본 압력까지 펌핑됩니다. 표면의 휘발성 물질과 잔류 수분을 제거하기 위해 기판을 진공 상태에서 가열합니다.

01

플라즈마 에칭(세정):

금속 이온 충격(티타늄 또는 크롬 타겟 소스 사용)은 원자 수준에서 기판 표면을 세척하여 자연 산화물을 제거하고 인터페이스를 활성화합니다.

02

반응성 증착:

반응성 가스(N2, CH4, O2)는 질량 흐름 제어기(MFC)를 통해 챔버에 주입되어 금속 플라즈마 플럭스(예: Ti, Cr, AlTi)와 반응하여 TiN, TiAlN 또는 CrN과 같은 화합물 막을 형성합니다.

03

냉각 및 환기:

증착 후 냉각은 챔버 환기 및 부품 회수 전에 보호용 불활성 가스 환경에서 발생합니다.

04

 

Arc Evaporation Thin Film Equipment

 

필름 재료 및 기판

지원되는 음극 타겟
티타늄(Ti) 및 티타늄 알루미늄(TiAl):표준 TiN 및 높은-산화 저항성- TiAlN 코팅용 기본 재료(최대 900도 산화 저항)


크롬(Cr):장식 마감재 및 내부식-CrN/CrC 층에 사용됩니다.


지르코늄(Zr) 및 티타늄 실리콘(TiSi):특수 장식 및 내마모성이 매우 뛰어난{0}}나노복합체 필름에 적용됩니다.


호환 가능한 기판 재료
고속-강(HSS):트위스트 드릴, 엔드밀, 호브 및 브로치.


초경합금(WC-Co):인덱서블 인서트, 리머 및 성형 다이.


엔지니어링 철강 및 합금:자동차 밸브 부품, 기어, 스테인레스 스틸 위생 하드웨어 및 티타늄 의료용 임플란트.

 

애플리케이션 및 성능 영향

금속 절단 도구:

초경 인서트 및 엔드밀에 TiAlN 및 AlCrN 코팅을 증착하여 공구 수명을 200%~300% 연장하고 건식 고속 가공을{2}}가능하게 합니다.

성형 및 스탬핑 다이:

조밀하고 저마찰 코팅을 적용하여 딥 드로잉 중에 접착제 마모, 흠집, 공작물 고착을 줄이고 가동 중지 시간을 최대 40%까지 줄입니다.

자동차 파워트레인:

경계 마찰 계수를 0.15 미만으로 최소화하고 긁힘 마모를 방지하기 위해 피스톤 링, 연료 분사 핀 및 태핏을 처리합니다.

산업용 하드웨어 및 위생 수도꼭지:

견고한 장식용 PVD 레이어(TiN 골드, 로즈 골드, 블랙 지르코늄)는 최소 500시간의 중성 염수 분무 테스트(ASTM B117)를 통과했습니다.

 

사용자 정의 및 프로세스 구성

장비 레이아웃은 생산량, 부품 형상 및 공장 설치 공간에 따라 확장됩니다.

챔버 기하학:

무거운 공구의 수직 적재 구조; 대용량 고정 장치 로딩을 위한 수평 배치 구성-

소스 통합:

음극 아크 소스와 불균형 마그네트론 스퍼터링(RMS) 음극을 결합하여 매끄럽고 물방울이 없는{0}} 다층 아키텍처를 증착하는 하이브리드 구성입니다.

여과 시스템:

광학 또는 초-정밀 기능성 코팅을 위한 매크로{0}}액적을 제거하기 위해 음극 채널에 설치된 선택적 자성 거대 입자 필터(조정 아크 필터)입니다.

자동화 인터페이스:

로봇식 로딩 암과 자동 가이드 차량(AGV) 배치 준비를 위한 통합{0} 준비가 완료되었습니다.

 

 

제조 및 품질 관리

구조적 무결성:챔버 본체는 다음의 감도 임계값에서 헬륨 질량 분석계 누출 테스트를 거칩니다.<= 1 x 10^-9 Pa*m3/s prior to assembly.


전기 안전 및 규정 준수:CE 및 IEC 전기 안전 지침에 따라 엄격하게 제작되었으며 전체 절연 테스트 및 비상 안전 인터록 기능을 갖추고 있습니다.


기능적 실행-오프(FAT):Each system undergoes a 72-hour continuous dry-run test and a full-process thermal deposition test in our factory. Coating thickness uniformity (+/- 5%) and adhesion (Scratch Tester critical load Lc >= 40 N / Rockwell 들여쓰기 HF1-HF2)는 배송 전에 표준 테스트 쿠폰에서 확인됩니다.

Cathodic Arc Thin Film Equipment

 

설치 및 기술 지원
 

현장 준비 패키지:

계약 후 4주 동안 냉각수 유량, 배기 환기, 바닥 부하 용량 및 전기 강하 사양을 자세히 설명하는 종합 유틸리티 레이아웃 도면이 제공됩니다.-

현장-시운전:

공장{0}}인증을 받은 프로세스 엔지니어는 고객 시설에서 기계 정렬, 진공 누출 감지, 전기 통합 및 초기 기준 레시피 설정을 처리합니다.

프로세스 레시피 전송:

납품에는 표준 기본 레시피(TiN, TiAlN, CrN)와 내부 유지 관리 및 엔지니어링 팀을 위한 운영 교육이 포함됩니다.

원격 진단 지원:

원격 매개변수 문제 해결 및 PLC 논리 진단을 위한 보안 산업용 라우터 게이트웨이가 장착된 시스템입니다.

 

 

FAQ

 

 

Q: 시스템은 아크 증발에 따른 거대 입자(액적) 생성을 어떻게 제어합니까?

A: 이 장비는 조정 가능한 자기장 스티어링 코일을 활용하여 대상 표면에 걸쳐 음극 아크 지점을 빠르게 이동시켜 체류 시간과 액적 배출을 줄입니다. 매우-매끄러운 마감이 필요한 응용 분야의 경우 선택 사항인 필터링된 아크 모듈은 기판에 도달하기 전에 금속 플라즈마를 거대 입자로부터 자기적으로 편향시킵니다.

Q: 표준 음극 구성의 일반적인 목표 활용률은 얼마입니까?

A: 표준 원형 및 직사각형 음극은 자기장 프로파일 및 타겟 두께에 따라 40% ~ 55%의 타겟 물질 활용률을 달성합니다. 유지 관리 중단 시간을 최소화하기 위해 빠른-클램프 메커니즘을 통해 타겟 교체를 기계적으로 고정합니다.

Q: 이 장비를 기존 자동화 생산 라인에 통합할 수 있나요?

답: 그렇습니다. PLC 제어 아키텍처는 자동화된 사전 세척 라인 및 로봇 로딩 셀과의 통합을 위해 SECS/GEM 통신 프로토콜과 표준 디지털 I/O 핸드셰이킹을 지원합니다.{1}}

Q: 맞춤형 챔버 구성의 표준 리드타임은 얼마나 됩니까?

A: 표준 수직 배치 시스템은 맞춤형 펌핑 그룹 사양 및 전원 공급 장치 배열에 따라 도면 승인부터 공장 승인 테스트(FAT)까지 16~22주가 소요됩니다.

우리는-중국 최고의 아크 증발 박막 장비 제조업체 및 공급업체 중 하나로 잘 알려져 있습니다. 중국에서 만든 맞춤형 아크 증발 박막 장비를 구입하려는 경우 공장에서 가격표를 받으십시오. 가격상담을 원하시면 연락주세요.

패터닝 응용을위한 박막 장비, 박막 증발 장비, 박막 시험 장비
문의 보내기
문의하기질문이 있으시면

전화, 이메일 또는 아래 온라인 양식을 통해 문의하실 수 있습니다. 전문가가 곧 연락을 드릴 것입니다.

지금 연락하세요!