제품개요

 

정밀 부품에 하드 코팅, 기능성 필름, 장식용 PVD 마감재를 적용하기 위해 설계된 산업용 다중{0}}아크 이온 도금 장비입니다. 높은-전류, 낮은-전압 진공 아크 방전을 활용하는 시스템은 고체 타겟 재료(Ti, Cr, Al, Zr)를 직접 기화합니다. 반응성 가스(N2, O2, C2H2)와 결합하면 밀도가 높은 전이 금속 질화물, 탄화물 및 산화물이 금속 기판에 직접 합성됩니다.


모듈식 진공 챔버 아키텍처를 기반으로 구축된 이 턴키 PVD 솔루션은 R&D 일괄 처리부터 처리량이 높은 자동화된 인라인 제조에 이르기까지{0}}다양한 생산 규모를 수용합니다.{1}} 이 시스템은 지속적인 24/7 산업 환경에서 높은 목표 활용도와 낮은 총 소유 비용(TCO)을 위해 최적화되었습니다.

 
  • 멀티-아크 진공 증착 장비
    이 멀티{0}}아크 진공 증착 시스템은 음극 아크 이온 도금 기술을 활용하여 금속 및 비금속 기판에 조밀하고 접착력이 높은 하드 코팅을 증착합니다.- 고체 음극 타겟에 낮은{4}}전압, 높은-전류 아크를 발생시켜 진공 환경에서 재료가 즉시 기화 및 이온화됩니다. 음의 바이어스 전압에 의해 가속된 금속 이온은 반응성 가스(N2, C2H2, O2)와...
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  • 다중-아크 이온 증착 시스템
    The Multi-Arc Ion Deposition System performs industrial-scale cathodic arc evaporation for hard, wear-resistant, and low-friction thin films. The process achieves >고체 음극 재료의 80% 이온화로 마그네트론 스퍼터링에...
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  • 다중-아크 PVD 박막 장비
    산업용 다중{0}}아크 PVD 시스템은 고-이온화 음극 아크 물리적 기상 증착을 활용하여 조밀하고 화학양론적인 하드 코팅(예: TiN, TiAlN, CrN 및 DLC)을 금속 기판에 증착합니다. 대량-계약 코팅 센터 및 종속 제조 라인을 위해 설계된 이 시스템은 정밀 부품의 내마모성, 마찰 감소 및 열 안정성을 최적화합니다.
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  • 다중-아크 이온 증착 장비
    산업용 다중{0}}아크 이온 증착 시스템은 높은-전류, 낮은-전압 음극 아크 증발을 통해 조밀하고 높은 접착력을 갖는 박막을 생성합니다. 고체 타겟 물질(음극)은 반응성 가스 분위기(예: N2, O2 또는 C2H2)에서 기화되어 화학양론적 화합물 코팅을 합성합니다. 80%를 초과하는 높은 이온화율을 위해 설계된 이 장비는 극한의 기계적 부하 환경에...
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  • 다중-아크 이온 박막 시스템
    산업용 다중{0}}아크 이온 박막 시스템은 음극 아크 증발을 활용하여 금속 및 합금 기판에 조밀하고 접착력이 높은 세라믹 및 금속 코팅을 증착합니다.- 높은-전류, 낮은-전압 전기 아크를 통해 진공 환경에서 고체 음극 재료를 기화함으로써 시스템은 반응성 가스(예: 질소, 아세틸렌 또는 산소)와 상호 작용하는 금속 증기를 이온화하여 화학양론적 화합물...
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  • 다중-아크 이온 박막 장비
    이 멀티{0}}아크 이온 플레이팅 시스템은 음극 아크 증발을 활용하여 조밀하고 접착력이 높은 하드 코팅과 기능성 박막을 증착합니다. 고체 음극 타겟에 높은{3}}전류, 낮은-전압 아크를 가하면 재료가 고진공 환경에서 즉시 기화되고 이온화됩니다.- 반응성 가스(N2, O2 또는 C2H2)와 결합된 이 시스템은 금속 또는 비금속 기판에 직접 화학량론적...
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기술 사양

 

매개변수

사양 범위

단위/비고

챔버 치수

Ф600 x 600 ~ Ф1500 x 1800

mm(맞춤형 수직 또는 수평 구성)

궁극적인 진공 압력

<= 5.0 x 10^-4

Pa(건식 펌프 + 터보{1}}분자/오일 확산 세트)

음극 아크 소스

4~16대

전자기 조정 또는 필터링된 아크 소스(FCA)

기판 바이어스 전력

0~-1000

V(고급 펄스 DC/MF 바이어스 기능)

가열 온도

실내 온도 ~ 600

C(PID 제어 복사 히터)

증착 균일성

<= +/- 5%

유효 작업 구역 전체에서 XRF를 통해 측정됨

제어 시스템

PLC + 산업용 PC

자동화된 레시피 실행, SCADA 데이터 로깅

안전 및 규정 준수

CE, ISO 9001

요청 시 UL{0}} 준수 전기 인클로저 제공 가능

 

 

다중-아크 이온 증착 공정

물리적 기상 증착 시퀀스는 엄격한 폐쇄형-루프 자동화 워크플로에서 작동하여 배치-간-반복성을 보장합니다.


대피 및 가스 배출:

진공 챔버는 다음의 기준 압력까지 펌핑됩니다.<= 5.0 x 10^-3 Pa, while substrate temperatures are ramped to eliminate surface volatiles.


플라즈마 에칭(폭격):

아르곤 가스가 도입됩니다. 높은 음의 바이어스가 기판 홀더에 적용되어 표면에 충격을 가해 자연 산화물과 미세{1}}오염물을 제거하는 Ar 이온을 생성합니다.

아크 증발 및 이온화:

DC 아크 전류가 고체 금속 음극에 부딪칩니다. 국부 음극 지점은 극도의 에너지 밀도에 도달하여 대상 물질을 고밀도 플라즈마 스트림(이온화율 > 80%)으로 즉시 기화합니다.-

반응성 증착:

반응성 가스는 질량 흐름 컨트롤러(MFC)를 통해 정밀하게 제어된 부분 압력으로 플라즈마 플럭스에 주입되어 회전하는 기판에 화학양론적 화합물 필름을 형성합니다.

냉각 및 환기:

챔버 환기 전 불활성 가스 보호 하에서 제어된 냉각이 발생하여 새로 코팅된 부품의 산화를 방지합니다.

 

필름 재료 및 코팅 특성

이 시스템은 다중{0}}금속 음극 배열을 지원하여 단층, 다중층, 나노-복합체 및 그래디언트 필름 아키텍처를 가능하게 합니다.

Multi-Arc Vacuum Deposition Equipment

TiN(질화티타늄):

표준 황금 코팅; 경도 2200-2400 HV; 마찰계수 0.4. 주요 용도: 일반 절삭 공구 및 기계 마모 부품.

Multi-Arc Ion Thin Film System

TiAlN(티타늄 알루미늄 질화물):

최대 850C의 고온-산화 저항성; 경도 3000-3300 HV. 주요 용도: 고속-건식 가공 인서트 및 엔진 밸브.

Multi-Arc Ion Thin Film System

CrN / CrAlN(질화크롬):

내식성이 우수하고 내부 응력이 낮습니다. 비철금속에 대한 -고착 방지 특성이-있습니다. 주요 용도: 성형 금형, 피스톤 링 및 섬유 기계 부품.

Multi-Arc PVD Thin Film Equipment

ZrN/TiCN:

낮은 표면 거칠기(Ra<= 0.05 um); decorative stability and biocompatibility. Primary use: medical surgical instruments and premium sanitary hardware.

 

 

응용

 

정밀 절단 도구:

높은 열 부하에서 연장된 공구 수명이 필요한 엔드밀, 드릴, 호브 및 인서트.

01

자동차 파워트레인:

경계 마찰과 긁힘 저항을 ​​줄여야 하는 피스톤 핀, 태핏, 연료 분사 구성 요소 및 기어 표면.

02

금형 및 다이:

접착 마모 및 열 피로에 대한 저항이 필요한 플라스틱 사출 금형, 스탬핑 다이 및 다이{0}}인서트.

03

항공우주 부품:

부식성이 강하고 스트레스가 높은 환경에서 작동하는 터빈 블레이드와 티타늄 패스너.

04

 

맞춤화 및 시스템 구성
 

표준 카탈로그 항목이 전용 공장 레이아웃에 완벽하게 맞는 경우는 거의 없습니다. 장비 구성은 특정 구성 요소 형상, 주기 시간 목표 및 시설 제약 조건에 따라 맞춤화됩니다.

챔버 기하학:

이중-수냉-냉각 재킷을 갖춘 팔각형 또는 원통형 스테인리스강 챔버(SUS304/SUS316L).

소스 레이아웃:

Side-mounted or bottom-driven arc sources with magnetic steering coils to minimize macroparticle generation and ensure high cathode utilization (>60%).

기판 고정:

유성 회전(3-축) 또는 자성 유체 피드스루로 구동되는 단일 회전 메커니즘은 복잡한 3D 형상에 균일한 코팅 적용 범위를 보장합니다.

펌핑 스택 옵션:

엄격한 펌프 다운 사이클 시간을 충족하도록 구성된 루츠 블로워, 로터리 베인 펌프, 극저온 펌프 또는 터보 분자 펌프.

 

품질 관리 및 테스트 프로토콜

모든 기계는 배송 전에 엄격한 공장 승인 테스트(FAT)를 거쳐 구매자 검토를 위해 문서화됩니다.

01

진공 무결성 테스트:

질량 분석법을 활용한 헬륨 누출 감지(누설률<= 1 x 10^-10 Pa*m3/s).

02

전기 안전 및 번인-:

전원 공급 장치, 수냉식 인터록 및 PLC 자동화 로직의 72시간 연속 공회전.

03

코팅 검증(-사내 실험실):

Calo-테스트(필름 두께), Rockwell 압입(접착 강도) 및 나노압입(경도)을 통해 샘플 실행을 테스트했습니다.

Multi-Arc PVD Thin Film Equipment

 

설치, 시운전 및 기술 지원

사이트 준비 지침:

냉각수 흐름/압력, 압축 공기, 배기 환기 및 전기 버스바 요구 사항에 대한 자세한 유틸리티 레이아웃 도면이 제공됩니다.

SAT 및 시운전:

현장-설치(현장 승인 테스트), 진공 교정, 수석 PVD 프로세스 엔지니어가 실행하는 기준 레시피 인계.

프로세스 교육:

음극 교체 일정, 예방적 진공 유지 관리, 문제 해결 및 기본 레시피 최적화를 다루는 실무{0}}운영자 교육입니다.

예비 부품 지원:

48시간 이내에 전 세계로 배송할 수 있도록 중요한 마모 부품(음극, 차폐물, 절연체 및 밀봉재)을 비축합니다.

 

 

 

자주 묻는 질문

 

 

Q: 다중-아크 이온 도금에 내재된 거대 입자(액적)를 어떻게 억제합니까?

A: 우리는 최적화된 아크 전류 파형과 결합된 조정 가능한 자기 스티어링 필드를 활용하여 음극 지점을 안정화하고 물방울 방출을 줄입니다. 매우-매끄러운 광학 또는 의료 응용 분야의 경우 시스템을 FCA(Filtered Cathodic Arc) 소스와 통합할 수 있습니다.

Q: 맞춤형 챔버 구성의 일반적인 처리 시간은 얼마나 됩니까?

A: 표준 구성은 16~20주 내에 배송됩니다. 완전 맞춤형 챔버 치수, 자동화된 로봇 로딩 인터페이스 또는 특수 극저온 펌핑 시스템의 경우 P&ID 도면 승인 후 24~30주가 소요됩니다.

Q: 시스템은 다양한 부품군에 대한 여러 코팅 레시피를 저장할 수 있습니까?

답: 그렇습니다. 산업용 PLC 제어 시스템은 최대 100개의 개별 프로세스 레시피를 저장합니다. 이를 통해 가스 질량 흐름 컨트롤러(MFC), 바이어스 전압 램핑, 아크 전류 시퀀싱 및 특정 단계 시간에 대한 자동화된 원터치 실행이 가능해집니다.

당사는{0}}중국 최고의 다중-아크 이온 박막 장비 제조업체 및 공급업체 중 하나로 잘 알려져 있습니다. 중국산 맞춤형 다중{3}}아크 이온 박막 장비를 구입하려는 경우, 저희 공장에서 가격표를 받으십시오. 가격상담을 원하시면 연락주세요.

패터닝 응용을위한 박막 장비, 박막 증발 장비, 박막 시험 장비
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