IBAE 시스템은 전자{0}}빔 또는 열 증발을 통합된 광폭{1}}빔 이온 소스와 결합합니다. 필름 성장 중 동시 이온 충격은 운동 에너지를 응축 원자로 전달하여 원주형 미세 구조를 제거하고 수분 유도 스펙트럼 변화를 최소화하면서 -벌크-밀도에 가까운 얇은 필름을 생성합니다.-
기술 사양
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매개변수 |
사양 |
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기본 압력 |
<= 5.0 x 10^(-5) Pa (achieved within 35 minutes) |
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작동 압력 |
1.0 x 10^(-1) ~ 1.0 x 10^(-2) Pa |
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이온 소스 유형 |
그리드리스 엔드-홀/카우프만 이온 소스 |
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이온빔 에너지 |
50eV~1,500eV(폐쇄-루프 안정화) |
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이온빔 전류 밀도 |
0~2.5mA/cm^2 |
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증발원 |
멀티-포켓 E-빔 건(4 x 15 cc ~ 6 x 40 cc) / 레지스탕스 보트 |
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기판 홀더 |
최대 300°C까지 가열되는 유성 회전 장치 |
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두께 균일성 |
<= plus/minus 0.5 percent over 400 mm diameter |
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제어 시스템 |
Siemens S7-1500 PLC + 산업용 PC (Inficon 증착 컨트롤러) |
주요 특징
이중-모드 폭격:운동 에너지 전달은 낮은 기판 온도에서 필름의 밀도를 높여 민감한 광학 부품과 폴리머 기판을 보호합니다.
폐쇄형-루프 이온 안정화:통합된 질량 흐름 컨트롤러는 장기간 생산 실행 전반에 걸쳐 일정한 이온 플럭스를 유지하여 배치 일관성을 보장합니다.
모듈식 진공 챔버:내부가 전해 연마된-304L 스테인레스 스틸 구조(Ra<= 0.2 um) and Conflat metal seals.
자동화된 시퀀싱:PLC-관리형 펌프-다운, 증착 및 환기 주기는 작동 변동을 최소화합니다.
진공 시스템 구성
러핑 펌프:오일-이 없는 건조 루트 및 회전 날개 펌프.
고진공 펌프:자기 부상 터보분자 펌프(1600L/s).
게이지:Pirani, 냉음극 및 Baratron 정전용량 압력계가 결합되어 있습니다.
밸브:하드웨어 안전 인터록을 갖춘 공압식 게이트 및 앵글 밸브.
증발 재료 및 기판 호환성
산화물:SiO2, Ta2O5, TiO2, Nb2O5, Al2O3
불화물:MgF2, LaF3
궤조:Au, Ag, Al, Ti, Cr
기질:용융 실리카, BK7, 실리콘 웨이퍼, 게르마늄, 셀렌화 아연(ZnSe) 및 내열-폴리이미드.
응용
정밀 광학:안정적인 중심 파장이 필요한 협대역 통과 필터 및 DWDM 코팅.
레이저 광학:높은-손상-임계 반사판 및 반사 방지 코팅-.
반도체 및 포토닉스:유전체 보호층, 패시베이션 및 광 도파관.
태양 에너지:투명 전도성 산화물(TCO) 인터페이스 수정.
맞춤화
챔버 크기:직경을 600mm에서 1200mm까지 확장 가능합니다.
소스 레이아웃:플랫폼당 최대 3개의 e-빔 건과 여러 열원.
현장 계측:-광대역 광학 모니터링(BOM) 또는 수정 마이크로저울(QCM) 통합.
오토메이션:SEMI 표준을 준수하는 로봇식 기판 로딩 인터페이스.
품질 관리
누출 감지:챔버당 헬륨 질량 분석기 테스트(감도<= 1 x 10^(-10) Pa*m^3/s).
부품 소싱:Tier-1 산업 브랜드(Inficon, MKS, Edwards, Siemens).
공장 승인(FAT):배송 전 72시간 연속 드라이 런 및 굴절률과 균일성을 측정하는 검증 코팅입니다.
설치 및 기술 지원
선적 서류 비치:전기 회로도, P&ID 다이어그램, PLC 소스 코드를 포함한 완전한 영어 패키지입니다.
현장 서비스:애플리케이션 엔지니어가 턴키 설치, 진공 교정 및 레시피 조정을 수행합니다.
원격 진단:소프트웨어 및 프로세스 문제 해결을 위한 보안 VPN 모듈입니다.
FAQ
Q: 이온 보조는 산화물 굴절률을 어떻게 변경합니까?
A: 에너지 이온 충격은 갇힌 잔류 가스를 배출하고 미세 구조를 조밀하게 만들어 Ta2O5 및 TiO2와 같은 필름의 굴절률을 벌크 값에 더 가깝게 이동시킵니다.
Q: 이온 소스의 일반적인 유지 관리 간격은 얼마나 됩니까?
A: 유지보수 간격은 공정 가스 및 작동 전력 밀도에 따라 처리 시간 150~300시간입니다.
Q: 이 시스템으로 반응성 가스 공정을 관리할 수 있나요?
답: 그렇습니다. 독립적인 질량 유량 컨트롤러는 안전 압력 스위치와 연동되어 반응성 가스(O2, N2)를 이온 소스 및 챔버 구역에 직접 주입합니다.
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