다중-아크 이온 증착 시스템

다중-아크 이온 증착 시스템

정보
The Multi-Arc Ion Deposition System performs industrial-scale cathodic arc evaporation for hard, wear-resistant, and low-friction thin films. The process achieves >고체 음극 재료의 80% 이온화로 마그네트론 스퍼터링에 비해 우수한 필름 접착력을 위해 기판 인터페이스에 고에너지 이온 충격을-가동합니다.
제품 분류
다중-아크 이온 박막 장비
 
문의 보내기
설명
기술적인 매개 변수

The Multi-Arc Ion Deposition System performs industrial-scale cathodic arc evaporation for hard, wear-resistant, and low-friction thin films. The process achieves >고체 음극 재료의 80% 이온화로 마그네트론 스퍼터링에 비해 우수한 필름 접착력을 위해 기판 인터페이스에 고에너지 이온 충격을-가동합니다.


이중-벽으로 둘러싸인 스테인레스-강 진공 챔버에는 모듈식 아크 소스와 PLC로 제어되는 자동 사이클 관리 펌프-, 현장 플라즈마 에칭, 반응성 가스 전달 및 다{5}}층 증착이 포함됩니다.

 

기술 사양

 

매개변수

사양

챔버 크기

맞춤형 내부 직경(Phi 800mm - Phi 1500mm)

용기 재질

내부 냉각 채널이 있는 이중-벽 SUS304/SUS316L

기본 압력

<= 5.0 x 10^-3 Pa (dry-pumped)

펌프-다운타임

대기압 6.0 x 10^-2 Pa in<= 15 minutes (clean, empty)

아크 음극

직사각형 또는 원형 소스 4~12개

전원 공급 장치

DC 아크(0~200A) 및 펄스 바이어스(0~3000V)

기판 회전

자성 유체 피드스루를 통한 다{0}}축 유성/단일{1}}회전

제어 시스템

자동화된 레시피를 갖춘 Siemens S7-1500 PLC + IPC

유틸리티 요구 사항

냉각수(18-25C, 0.2-0.4MPa); 압축공기(0.5~0.7MPa)

 

주요 특징


높은 이온화율:고밀도 이온 충격을 통해 필름 박리를 최소화합니다.


제어된 아크 안정성:프로그래밍 가능한 트리거 및 폐쇄{0}}루프 전류 조절은 거대 입자(액적) 형성을 억제하고 반응성 가스(N2, C2H2, O2) 하에서 표적 중독을 방지합니다.


모듈식 아크 소스:측면 및 도어 배치는 균일한 두께 분포를 위해 복잡한 3D 도구 형상에 맞게 조정됩니다.


펄스 기판 바이어스:동기화된 전압 펄스는 잔류 응력, 결정립 미세화 및 미세 경도를 조정합니다.


헤비-부하 교체 단계:유성 고정 장치는 높은 열 및 진공 부하에서 최대 500kg의 배치 부하를 지원합니다.

 

진공 시스템 구성


황삭 및 뿌리:루츠 송풍기와 결합된 다단계 건식 스크류 펌프는 전환 압력까지 탄화수소 오염을 방지합니다.


고진공:터보분자 또는 확산 펌프는 초-기본 압력을 유지합니다.


트래핑 및 측정:선택적인 액체 질소 콜드 트랩; 광범위한-범위의 피라니/냉음극 조합 게이지.

 

증발 재료 및 기판 호환성


음극 타겟:순금속(Ti, Cr, Al, Zr, Mo, W) 및 합금 타겟(TiAl, TiSi, CrAl, WC-Co).


기판 재료:고속도강(HSS)-, 초경 인서트, 냉간/열간 공구강(SKD11, H13), 스테인리스강, 티타늄 합금.


사전-치료:수성 초음파 세척 후-현장 Ar+ 또는 금속 이온 충격 식각을 통해 자연 산화물을 제거합니다.

 

응용


절단 도구:TiN, TiAlN, and AlCrN coatings on end mills and drills to achieve >3000HV 표면 경도 및 내산화성.


금형 및 다이:마모 및 마모를 방지하기 위한 사출 금형 및 스탬핑 다이의 보호 층입니다.


자동차:마찰 계수를 낮추기 위해 피스톤 링, 기어, 인젝터 핀에 DLC 및 CrN 코팅을 적용했습니다.


의료 기기:수술 기구 및 임플란트의 생체적합성 TiN/TiCN 코팅.

 

사용자 정의 옵션


챔버 크기 및 포트 레이아웃:맞춤형 볼륨 및 광학 방출 모니터링(OEM) 포트.


발전기:고객이-지정한 전원 공급 장치 브랜드 또는 특수 펄스-바이어스 구성.


여과법:제로-액적 광학/전자 마감을 위한 자기 조종 필드 및 거대입자 필터.


오토메이션:Industry 4.0 데이터 로깅을 위한 SCADA 통합 및 SQL 데이터베이스 연결.

 

품질 관리 및 공장 승인 테스트


누출 테스트:모든 용접부에 대한 헬륨 질량 분석기 테스트(<= 1.0 x 10^-9 Pa*m3/s).


전기 안전:CE/NFPA 표준에 따른 절연 저항, 접지 및 인터록 검증.


기능적 드라이런:72시간 연속 기계 및 밸브 사이클링 테스트.


프로세스 검증:나노압입 경도 및 스크래치 접착력에 대한 참조 쿠폰 테스트.

 

설치 및 지원


설치 전-:전력, 물, 배기 및 압축 공기에 대한 유틸리티 레이아웃 청사진이 제공됩니다.


시운전:공장 엔지니어가 감독하는 현장 설정 및 시운전.-


훈련:실습-운영, 음극 교체, 정기 유지보수 코칭.


수명주기 관리:안전한 VPN 원격 진단 및 로컬 예비 부품 프로비저닝.

 

FAQ

 

Q: 음극 아크 증착 중에 거대입자(액적)는 어떻게 제어됩니까?

답변: 완화는 최적화된 아크 전류, 고속-자기 조향 및 매우 매끄러운 표면 요구 사항을 위한 선택적 자성 거대 입자 필터에 의존합니다.-

Q: 일반적인 양극재 목표 가동률은 얼마입니까?

A: 음극 침식 프로파일과 자기장 구성을 기준으로 활용도 범위는 55%~70%입니다.

질문: 시스템이 TiAlN과 같은 다중-원소 필름에 대한 반응성 가스 증착을 관리할 수 있습니까?

답: 그렇습니다. 질량 흐름 컨트롤러(MFC)는 광학 방출 또는 부분 압력 피드백을 사용하여 반응 흐름(N2, CH4)을 안정화하고 화학양론적 구성을 유지합니다.

Q: 전력 요구 사항은 무엇입니까?

A: 표준 시스템에는 3상 전원(380V-480V, 50/60Hz)이 필요하며 총 부하 용량은 음극 수량에 따라 60kVA~150kVA입니다.

 

인기 탭: 다중-아크 이온 증착 시스템, 중국 다중-아크 이온 증착 시스템 제조업체, 공급업체, 공장

문의 보내기
문의하기질문이 있으시면

전화, 이메일 또는 아래 온라인 양식을 통해 문의하실 수 있습니다. 전문가가 곧 연락을 드릴 것입니다.

지금 연락하세요!